U procesu ICP-MS spektrometrije koristi se komora za raspršivanje. Komore za raspršivanje koriste se u određenom trenutku u procesu gdje se razvija fini raspršivač, a zatim pohranjuje u komoru u kojoj se zatim miješa argon. Osnovna odgovornost komora za raspršivanje je osigurati da samo male i uske kapljice stvaraju sve do plazme. Većina materijala koji se uzorkuje se drenira iz komore, a ostatak se uvodi u plazmu gdje se pobuđuje visokim temperaturama.
Komore za raspršivanje najčešće se koriste tijekom procesa ICP-MS. ICP-MS je skraćenica za maseni spektrometar s induktivno spregnutom plazmom. ICP-MS je vrlo osjetljiv, vremenski učinkovit sustav koji se koristi za mjerenje električne koncentracije različitih otopina. Pomoću ICP-MS može se odrediti čak 75 pojedinačnih elemenata, čak i ako element ima samo jedan dio na milijardu u otopini.
Postoji mnogo koraka u ICP-MS proceduri koji omogućuju znanstvenicima analizu elemenata. Početni korak u procesu je pretvaranje molekula u uzorku tvari u pojedinačne atome i ione. To se postiže izlaganjem uzorka visokotemperaturnoj radiofrekventnoj argon plazmi. Pumpa nosi uzorak u nebulizator i on se pretvara u fini sprej.
Fini raspršivač se zatim drži u komori za raspršivanje gdje se miješa s argon plazmom. U komori se većina uzorka odvodi dok se ostatak nosi u procesu. Ostatak uzorka pomiješan s argon plazmom se zatim podvrgne visokoj toplini i ionizira za analizu spektra čestica.
Postoji mnoštvo različitih ICP-MS strojeva koji se koriste za analizu uzoraka. Stoga postoje i različite vrste komora za prskanje. Neki od različitih dostupnih tipova su Althea, Vaga, Electron i Poistron.
Althea se koristi za visoku propusnost pri velikom unosu. Libra je ciklonska komora za raspršivanje koja se koristi za niska otapala. Electron je mini-ciklonska komora za raspršivanje za nisko upijanje i brz protok. Poistron je mini-ciklonska komora za raspršivanje koja se koristi za nisko upijanje i minimalno opterećenje otapalom.